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江蘇芯夢(mèng)半導體設備有限公司

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全自動(dòng)晶圓盒清洗機

設備特點(diǎn)、工作原理

在半導體制造過(guò)程中,片盒和FOUP的清潔度直接影響到晶圓的良率。我們深知晶圓盒清潔的重要性,經(jīng)過(guò)多年的研發(fā)和經(jīng)驗積累,推出了一系列高效、精密、節能的清洗設備和方案:

  • 全方位清洗:采用獨特的清洗工藝,360度無(wú)死角清洗,確保片盒和FOUP的每個(gè)角落都得到徹底清潔,同時(shí)防止細菌滋生,維護晶圓的潔凈環(huán)境。

  • 精密清洗技術(shù):自主研發(fā)的雙流體旋轉噴射清洗方式,可實(shí)現超微精密清洗,有效去除微小顆粒和化學(xué)殘留,滿(mǎn)足日益提高的清潔度要求。

  • 節能環(huán)保:設備采用高效節能設計,在確保清洗效果的同時(shí),盡可能降低能耗,踐行綠色生產(chǎn)理念。

  • 去除AMC污染:采用專(zhuān)利干燥技術(shù),可有效去除AMC(空氣分子污染物),防止其對晶圓制程造成影響。

  • 智能化管理:設備全生產(chǎn)過(guò)程實(shí)時(shí)監控,兼容自動(dòng)傳輸系統(AMHS),符合GEM300通訊標準以及SEMI S2、S8標準,實(shí)現智能化管理,提高生產(chǎn)效率。

  • 高產(chǎn)能低占地:合理的設備設計,在低占地面積下實(shí)現高產(chǎn)能,以12寸FOUP為例,多至25個(gè)/小時(shí)的清洗能力。

我們的清洗設備和方案可廣泛應用于各種規格的半導體片盒、FOUP、FOSB等,并可根據客戶(hù)的特定需求提供定制化服務(wù)。通過(guò)不斷創(chuàng )新和優(yōu)化,我們致力于為客戶(hù)提供一流的清洗解決方案,助力半導體制造工藝更上一層樓。


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