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江蘇芯夢(mèng)半導體設備有限公司

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單片刻蝕機

單片清洗機
單片刻蝕機

Core Technology For Single Wafer Clean

Nano-Spray技術(shù)常溫條件下,且不同的氣壓、液壓的范圍下霧滴顆粒度值在6.8-7.8um(SMD)

Nano-Spray 在確定的條件下,距離晶圓的高度不一樣,其對晶圓表面的作用力大小不一樣,最終影響到清洗的效果

晶圓在不同的轉速下,且在Nano-Spray擺動(dòng)清洗整片晶圓時(shí)一樣,會(huì )造成清洗不均勻性

每一圓徑上的線(xiàn)速度不一樣,Nano-Spray的擺動(dòng)的線(xiàn)速度不同

確認好晶圓表面打擊力,同時(shí)把晶圓的轉速,Nano-Spray的轉速,針對每一個(gè)點(diǎn)形成一個(gè)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)控制的閉環(huán)回路,來(lái)實(shí)現晶圓所有點(diǎn)的清洗均勻性


單片清洗機/單片刻蝕機


全自動(dòng)單片工藝設備

  • 客制化服務(wù),提供1/2/3/4/8腔工藝設備定制

  • 90nm單片清洗設備已經(jīng)通過(guò)工藝驗證

  • 深入研究65至28nm制程的清洗技術(shù)

  • 研究50-100um薄片清洗和刻蝕

  • 研發(fā)伯努利真空吸盤(pán),實(shí)現背面清洗和刻蝕

  • 已特有的智能的動(dòng)態(tài)微控清洗技術(shù)和兆聲波清洗技術(shù)

  • 8/12晶圓單片設備為主,小尺寸的為輔

  • 穩定性高,可靠性好,一致性表現突出

  • 優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,有競爭力的價(jià)格和使用成本


1、晶圓在高速旋轉時(shí),背面有一層液體膜,兆聲波通過(guò)液體膜作用于晶圓上,同時(shí)正面有液體噴在晶圓上也形成一層液體膜;

2、正面的液體對晶圓有一定的打擊力,同時(shí)兆聲波會(huì )在晶圓上形成氣穴作用,在雙重作用力的情況下對晶圓進(jìn)行清洗;

3、一種情況是背面的兆聲頻率和功率是一定的,且背面有接收兆聲功率大小的傳感器,則實(shí)時(shí)改變正面噴嘴的距離;

4、一種情況是正面噴洗的距離是一定的,且有接收兆聲功率大小的傳感器,則實(shí)時(shí)控制背面的兆聲波頻率和功率;

5、建立兆聲波氣穴作用和晶圓表面打擊力的相互作用力的清洗效率,找到均衡點(diǎn),從而建立控制關(guān)系;

6、采用藍寶石的兆聲頭,能夠適用于各種惡劣的環(huán)境,兆聲波間接參與清洗工藝,避免造成過(guò)大的損傷。




主要優(yōu)勢

客戶(hù)特殊需求定制化服務(wù)
與客戶(hù)合力研究新工藝

智能的動(dòng)態(tài)微控清洗技術(shù)

兆聲波清洗技術(shù)

準確的化學(xué)液溫度,濃度,流量等穩定且精準控制
提供多腔不同工藝的流程控制
提供多種晶圓尺寸的設備開(kāi)發(fā)